Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology - Seiji Samukawa - Böcker - Springer Verlag, Japan - 9784431547945 - 17 februari 2014
Om omslag och titel inte matchar är det titeln som gäller

Seiji Samukawa
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Pris
SEK 559

Beställningsvara

Förväntad leverans 6 - 14 jan 2026
Julklappar kan bytas fram till 31:e januari

Våra kunder säger:

14 dagars returrätt
Toppbetyg på Trustpilot
Lägg till din iMusic-önskelista
eller

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

40 pages, 30 Illustrations, color; 5 Illustrations, black and white; VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus

Media Böcker     Pocketbok   (Bok med mjukt omslag och limmad rygg)
Releasedatum 17 februari 2014
ISBN13 9784431547945
Utgivare Springer Verlag, Japan
Antal sidor 40
Mått 155 × 235 × 222 mm   ·   86 g
Språk Engelska  

Se alt med Seiji Samukawa ( t.ex. Pocketbok )