Tipsa dina vänner om produkten:
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Emerging Materials and Technologies Oluwatobi Adeleke
Pris
SEK 2.639
Beställningsvara
Förväntad leverans 27 jul - 10 aug
Få avisering om nya utgåvor med Oluwatobi Adeleke
Lägg till din iMusic-önskelista
eller
Finns även som:
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Emerging Materials and Technologies
Oluwatobi Adeleke
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
496 pages, 102 Line drawings, black and white; 24 Halftones, black and white; 126 Illustrations, bla
| Media | Böcker Inbunden Bok (Inbunden bok med hårda pärmar och skyddsomslag) |
| Releasedatum | 15 december 2023 |
| ISBN13 | 9781032386706 |
| Utgivare | Taylor & Francis Ltd |
| Antal sidor | 354 |
| Mått | 150 × 220 × 20 mm · 662 g |
| Språk | Engelska |